お知らせ

2010年9月20日ー23日に北海道大学で行われた日本遺伝学会第８２回大会で伊藤　秀臣　助教（形態機能学III）の発表がBest Paper賞に選ばれました。
演題は「siRNAによるシロイヌナズナ熱活性型レトロトランスポゾンの世代間転移制御」です。
この発表では植物において環境ストレスによって活性化するトランスポゾンの新規の制御機構の発見が高く評価されました。
発表要旨：トランスポゾンは多くの生物でゲノムの主な構成要素でありゲノム進化の重要な因子となり得るがその転移を制御する仕組みは詳しく理解されていない。我々はシロイヌナズナのcopia型レトロトランスポゾン「ONSEN」が熱ストレスで活性化することを見つけた。ONSENは転写が活性化し染色体外DNAを合成する。またsiRNA合成経路の変異体に熱ストレスを与えると次世代で高頻度に転移が観察されsiRNAがONSENの転移制御に関与することが示された。新規挿入箇所は個体間で異なることから転移は配偶子形成時期に起ることが示唆された。これらの結果からレトロトランスポゾンの新規の転移制御機構について発表した。
伊藤先生のますますのご活躍が期待されます。